4月11日，应新浦金350vip邀请，白俄罗斯国立信息与无线电电子大学首席研究员基玛（Dmitriy Golosov）博士为公司师生做了题为《Ion-beam technology for deposition of SiON thin films and ion etching》的学术报告。
Dmitriy Golosov 博士围绕离子束溅射沉积SiON薄膜的制备和刻蚀工艺展开了深入介绍，讲解了离子束溅射沉积和刻蚀工艺中各种参数对薄膜表面形貌及性能的影响。Dmitriy Golosov 博士深入浅出，旁征博引，将所研究的最新成果展示给了现场的师生，赢得各位老师和员工一致的认可和好评。通过本次学术报告的开展，让公司师生对离子束溅射沉积薄膜技术领域的知识有了深入了解，对公司光学工程领域的研究有积极的指导作用。
Dmitriy Golosov 博士长期从事离子束和等离子体沉积薄膜设备的设计及制造以及离子束和等离子体沉积薄膜沉积工艺的研究。曾获白俄罗斯共和国总统授予光明青年科学家奖。
图/文：徐均琪 审核：蔡长龙
